1.6个样品,独立加压。
2.PLC独立控制磨抛盘和样品盘:转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等全部磨抛参数,并自动保存、方便调用;
3.触摸屏界面:磨抛参数设定方便,状态显示直观,操作简单;
4.磨抛盘和样品盘转动均无级变速,旋转方向可切换,PLC控制水和磨料滴入器的通断。
5.3种工作模式:
1)全自动模式:
根据样品材料或使用者的习惯,可设置和调用:30套工艺(流程),每套工艺可含10步工序参数(每个工序对于某一步磨或抛工序工序参数:磨盘和磨头转动速度、磨抛时间……)
2)单工序模式:
根据每一步磨抛工序,可设置和调用30种工序参数:磨盘和磨头转动速度、磨抛时间、水通断……
3)手动模式:
对设备的某一功能,单独进行操作
6.自带四通道自动滴液器(选件):
1)磨抛机主机控制四通道滴液器,滴液品种和速度均由磨抛机下发指令
2)滴液器三种工作模式:手动、联机、全自动
3)和抛光机连机,按磨抛机设定的磨抛参数进行滴液;每种模式均可独立设置: 滴液速度,滴液时间
7.U盘储存300条工艺,可导入导出;
8.磨头电磁自动锁紧,取代手动磨头锁紧扳手,更加方便;
9.轻松更换磁性防粘盘,就能完成各种试样的粗、精磨及粗、精抛光等所有工序, 一盘等效于N个盘;
10.中/英文界面切换。
主要参数:
规格 |
WMP-1000 |
WMP-2000 |
|
工位 |
单盘 |
双盘 |
|
工作盘直径 |
标配φ254mm( 选配φ230mm、φ203mm)带有磁性转换盘系统 |
||
磨盘转速 |
50-1000转/分 转向正反转可以切换 |
||
样品盘转速 |
30-200转/分 转向正反转可以切换 |
||
手动模式 |
可以选择30组参数,每组参数分别设置和调用 |
||
自动模式 |
30套工艺(流程),每套工艺含10步工序参数(自动从工序1到工序10,每步工序独立一组参数) |
||
样品盘 |
标配φ30mm六孔(选配φ20六孔、φ40、φ50mm三孔,其余可定制) |
||
磨头锁紧方式 |
电磁自动锁紧 |
||
工作气源压力 |
不低于0.6MPa |
||
电机功率 |
0.75Kw |
||
电源 |
AC220V,50/60Hz,2KW |
||
外形尺寸(长*宽*高) |
760 x 470 x 700 |
760 x 730 x 700 |
|
重量 |
63kg |
74kg |
MAGNOMET |
防粘盘 5片/盒 直径:Φ250mm |
GSC250A |
金相专用砂纸 100片/包 |
FT250A |
金相抛光织物 10片/包 |
DSU |
金刚石悬浮研磨抛光液 500ml/瓶 |